1、中電四十八所：中電四十八所事業(yè)二部承擔著擴散爐等其他太陽能光伏設備的生產，2008年，成功研制出了新型閉管擴散爐——全封閉推舟軟著陸擴散爐，2008年銷售數(shù)百臺之多，截至目前市場占有率在80%左右。包括其他光伏設備在內，2008年銷售收入達10.15億元，新簽單5億多元。另外，2008年相繼為江西佳輝、神州光電等單位數(shù)十條生產線提供了除絲印機之外的整線裝備。今年一季度，中電四十八所銷售額達到收入4.1875億元，比去年同期增長70%以上，真正實現(xiàn)了在金融危機影響下彎道不減速。四十八所新型擴散爐，單管產能高達400片，在產能提高33%的同時，能源消耗降低50%以上，廢氣排放降低到原來開管擴散的1/10，能耗降低20%左右，平均單位擴散成本降低20%以上。成功突破了爐門自動密封、尾進尾出送氣、廢氣自動收集、三維送片機構調整等多項關鍵技術。達到國際先進水平的大生產用新型太陽能電池生產專用擴散設備，價格卻只有進口同類設備的1/3。
　　2、北京七星華創(chuàng):北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司（簡稱“七星電子”）傳承五十多年電子裝備及元器件的生產制造經驗，于2001年9月成立。七星華創(chuàng)于2007年研制出新型擴散爐，具有四套獨立的工藝爐管，關鍵件全部采用進口件，采用進口智能控制器，可輸出四個開關量，對爐溫、閥門動作進行自動控制，并管理全部工藝時序，可編輯存貯十條工藝曲線實現(xiàn)為實現(xiàn)閉管擴散工藝，所以必須進行爐口密封，在這方面，七星華創(chuàng)經過無數(shù)次的試驗，包括數(shù)次失敗的考驗，最終解決了這個棘手的難題：即在沒有任何水冷條件下，在工藝溫度高達900℃時，采用普通氟橡膠密封圈能夠使工藝管密封，并能夠長期工作。
　　3、株洲眾欣科技：株洲眾欣科技專注于磁流體領域，公司創(chuàng)辦人羅喜梅女士是國內第一個把磁流體技術進行產業(yè)化生產并運用到真空領域的研發(fā)型企業(yè)家。2007年，眾欣科技通過和國內的大專院校的多名專家學者細致交流，然后進行了大量的市場實際調查，眾欣科技認為擴散在電池片當中，起到決定性的作用。從提高轉換率以及降低生產成本出發(fā)，在現(xiàn)有市場上使用的擴散爐技術方面進行了革新，成功研發(fā)出新型“氣旋動態(tài)”擴散爐，截至目前已成功銷售3臺臥式“氣旋”擴散爐。對于“動態(tài)”擴散的定義，眾欣科技是這樣解釋的，這是一個相對的概念，主要是針對硅片而言，現(xiàn)在市場上的硅片在擴散的過程當中都是靜止不動的，而眾欣的動態(tài)擴散，就是硅片在整個擴散過程中是一個運動的狀態(tài)。由于硅片主動地尋找擴散，而不是象原來的被動擴散，所以這個動態(tài)擴散的均勻性在遠離上面確實可行，該擴散爐最大的特點體現(xiàn)在擴散的效果上：保持方塊電阻片內均勻性在3歐姆之內，源的使用量減少使用量三分之一。今年七月，眾欣科技將為湘潭一企業(yè)提供六管動態(tài)擴散爐，即25MW生產線。同時，根據(jù)市場的需要，眾欣科技也可以提供動態(tài)擴散改造服務，為電池片生產廠家節(jié)約大量的生產成本和運行費用。
　　4、青島賽瑞達：青島賽瑞達設備制造有限公司由北京昊海立德科技有限公司注資的高新技術企業(yè)，是集開發(fā)、生產、銷售為一體的專業(yè)廠家。具有自主研制、設計和開發(fā)半導體專用工藝設備、包裝機械、智能化儀表等產品的能力，同時可根據(jù)用戶的不同需求進行設計和開發(fā)，并且具備改造、裝備國外二手設備的能力。該公司擴散爐為閉管磷擴散，帶有工藝廢氣冷卻定向回收裝置，偏磷酸、CL2分開收集處理，工藝廢氣集中收集從尾部定向排出，各種工藝氣體可分開送入石英管內，工藝氣體(三氯氧磷)可采用噴淋式方式引入到石英管內，采用懸臂式推拉舟送取電池片，另采用側面布局的懸臂推拉結構，可有效的防止偏磷酸下滴，造成推拉機構受腐蝕，影響推拉機構的精確性。
等離子刻蝕機——干法腐蝕設備全部國產為主，少量濕法腐蝕設備需要進口
　　由于在擴散過程中，即使采用背靠背擴散，硅片的所有表面包括邊緣都將不可避免地擴散上磷。PN結的正面所收集到的光生電子會沿著邊緣擴散有磷的區(qū)域流到PN結的背面，而造成短路。因此，必須對太陽能電池周邊的摻雜硅進行刻蝕，以去除電池邊緣的PN結。通常采用等離子刻蝕技術完成這一工藝，等離子刻蝕是在低壓狀態(tài)下，反應氣體CF4的母體分子在射頻功率的激發(fā)下，產生電離并形成等離子體。等離子體是由帶電的電子和離子組成，反應腔體中的氣體在電子的撞擊下，除了轉變成離子外，還能吸收能量并形成大量的活性基團?；钚苑磻鶊F由于擴散或者在電場作用下到達SiO2表面，在那里與被刻蝕材料表面發(fā)生化學反應，并形成揮發(fā)性的反應生成物脫離被刻蝕物質表面，被真空系統(tǒng)抽出腔體。在等離子體刻蝕機使用過程中，等離子體不能一直保持在某一穩(wěn)定狀態(tài)，有許多因素會對刻蝕機系統(tǒng)產生擾動，如刻蝕機的定期維護（PM）、反應腔室內壁聚合物的沉積、設備部件的老化（傳感器及各種其他容易磨損的部件），以及未經測量的進入反應腔室的晶片狀態(tài)的差異等。在不同的時間尺度范圍內，刻蝕機產生漂移的原因是不同的，因而需要采用相應的控制類型加以控制。PM與PM之間，刻蝕機要經歷定期的清洗、部件的更換和維修等，這些都能對刻蝕工藝產生影響。刻蝕機定期維護的目的是讓反應腔室每次都能恢復到同樣的理想狀態(tài)，而這通常是很難達到的。因而會在前一個刻蝕機定期維護快結束之時到下一次刻蝕機定期維護開始后的一段時間發(fā)生工藝狀態(tài)的不連續(xù)。在一個刻蝕機定期維護周期之內，刻蝕機狀態(tài)的改變主要是由于刻蝕產生的殘余聚合物在反應腔室內的沉積，以及易損件及可更換部件的磨損所引起的。
　　干法刻蝕（ICP）是目前主流的刻蝕設備工藝，它采用射頻輝光放電將參與反應的化學氣體電離形成等離子體，通過對刻蝕參數(shù)精確的控制和測量，把光刻形成的電路圖轉移到硅片上形成三維結構。其間融合了等離子體、射頻、超高真空、自動化控制等多種尖端技術，是電池片制造過程中至關重要的一環(huán)。綜觀國內刻蝕設備生產企業(yè)，具有以下特點：采用片架旋轉密封技術，提高刻蝕的均勻性；硅片放置自動壓緊技術，減少了鉆蝕風險；ICP技術的形成及引入，提高了設備的各種效率；特別是大容量反應室的設計，大大提高了電池片的處理能力。
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